インターネット検索で見つかった競合他社のプラズマ発生器は、HV（高真空）には互換性があっても、UHV（超高真空）には互換性がないと思われます。 HVプラズマ発生器をUHV互換に変換するための真空機器には、高価な隔離弁とプリポンプ機器を取り付ける必要があります。

 

GV10x UHV DS Asherは、ミリトール領域でチャンバーをプラズマ洗浄した後に、真空状態を破壊することなく、UHVチャンバーにそのまま設置しておけるように設計されています。 このin-situプラズマ発生器が1台あれば、高いコストのかかる隔離弁やプリポンプはもはや必要ありません。

 

 

Key Features

競合製品より10倍高速な洗浄サイクル（分単位）
”古典的な”静電容量型プラズマ発生器よりも優れたパフォーマンス
非酸化表面用のO2/Ar O0プラズマ
NiおよびRh酸化層用のH2/Ar/Ne H0プラズマ
グレーティング効率は7.6倍に増加
ブレーズド高エネルギー格子プロファイルの完全修復が可能
5mTorr未満～2Torrの範囲で連続的に調整可能な動作圧力
幅広い電力範囲：5-100WのRF電力
試料の損傷なし
両方の制御器での光絶縁により保護されたシステムPC
非常に高い洗浄効率と均一性
競合製品よりも10倍から20倍効果的に汚染を除去
競合製品より10倍高速な洗浄サイクル（分単位）
将来のスケールアップとH0汚染除去の改善計画が進行中

 

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